Exclusive-ASML dice que las herramientas EUV de próxima generación están listas para la producción en masa de chips, marcando un cambio clave para la producción de chips de IA

Exclusivo-ASML dice que las herramientas EUV de próxima generación están listas para producir chips en masa, marcando un cambio clave en la producción de chips para IA

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Reuters

Vie, 27 de febrero de 2026 a las 7:04 AM GMT+9 2 min de lectura

SAN JOSÉ, California, 26 de febrero (Reuters) - Una máquina de fabricación de chips de próxima generación de ASML Holding está lista para que los fabricantes comiencen a usarla para producción en grandes volúmenes, dijo un alto ejecutivo a ‌Reuters, un gran paso para la industria de los chips.

La compañía holandesa produce las únicas herramientas comerciales de litografía ultravioleta extrema (EUV) en el mundo, que son un equipo crítico para los fabricantes de chips. Esta nueva herramienta ayudará a fabricantes como Taiwan Semiconductor Manufacturing y Intel a producir chips más potentes y eficientes, eliminando varios pasos costosos y complejos del proceso de fabricación de chips, según datos de ASML.

ASML planea presentar estos datos, que representan un hito importante, en una conferencia técnica en San José el jueves, dijo a Reuters el director de tecnología de la compañía, Marco Pieters.

A ‌años de desarrollar estas costosas herramientas de próxima generación, los fabricantes de chips han intentado determinar en qué momento es económicamente viable comenzar a usarlas para producción en masa.

Pero dado que la generación actual de herramientas EUV se acerca al límite técnico de su capacidad para fabricar chips complejos de IA, las máquinas de próxima generación, llamadas herramientas EUV de Alta-NA, son clave para que la industria de IA mejore chatbots como ChatGPT de OpenAI y ayude a los fabricantes a cumplir con sus hojas de ruta de chips de IA a tiempo para satisfacer la demanda creciente.

Las nuevas herramientas cuestan aproximadamente 400 millones de dólares, el doble del costo de las máquinas EUV originales.

Las herramientas EUV de Alta-NA ahora experimentan tiempos de inactividad limitados, han producido 500,000 obleas de silicio del tamaño de un plato y pueden dibujar patrones suficientemente precisos que conforman los circuitos en el chip, según datos de ASML, dijo Pieters. En conjunto, estos tres puntos de datos indican que las herramientas están listas para los fabricantes.

“Creo que estamos en un punto crítico al observar la cantidad de ciclos de aprendizaje que han ocurrido,” dijo, refiriéndose al número de pruebas realizadas en las máquinas por los clientes.

A pesar de su preparación técnica, las empresas necesitarán de dos a tres años para realizar suficientes pruebas y desarrollos para integrarlas en la fabricación.

“(Los fabricantes de chips) tienen todo el conocimiento para calificar estas herramientas,” dijo Pieters.

Pieters también mencionó que la compañía ha logrado aproximadamente un 80% de tiempo de actividad en este momento y planea alcanzar el 90% para fin de año. Los datos de imagen que ASML planea publicar son suficientes para convencer a los clientes de reemplazar múltiples pasos con las herramientas de generación anterior por un solo paso de Alta-NA, dijo Pieters. Las 500,000 obleas que las máquinas han procesado han permitido a la compañía resolver muchas de las fallas.

(Reportaje de Max A. Cherney en San Francisco; Edición de Sayantani Ghosh y Matthew Lewis)

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