獨家報導—ASML表示下一代極紫外光（EUV）工具已準備好進入大規模生產階段，標誌著人工智慧芯片生產的關鍵轉折點

檔案照片：上海中國國際進口博覽會 · 路透社

路透社

2026年2月27日星期五 上午7:04（GMT+9） 2分鐘閱讀

加州聖荷西，2月26日（路透社）—一位高級主管告訴路透社，荷蘭公司ASML控股的下一代芯片製造機器已準備好供製造商開始大規模投入使用，這對半導體產業來說是一個重大步伐。

這家公司生產全球唯一的商用極紫外光（EUV）光刻機，這是芯片製造商的關鍵設備。根據ASML的數據，這款新工具將幫助台灣積體電路製造公司（TSMC）和英特爾等芯片製造商生產更強大、更高效的芯片，通過消除多個昂貴且複雜的製程步驟。

ASML計劃在週四於聖荷西舉行的技術會議上公布這些數據，該公司首席技術官Marco Pieters在週三向路透社表示，這代表了一個重要的里程碑。

ASML花了多年時間開發這些昂貴的下一代工具，因為芯片製造商一直在試圖確定何時經濟上開始使用它們進行大規模生產才是合理的。

但鑑於目前一代EUV工具已接近其製造複雜AI芯片的技術極限，所謂的高NA EUV工具——下一代機器——對於人工智慧產業來說至關重要，能提升像OpenAI的ChatGPT這樣的聊天機器人性能，並幫助芯片製造商按時交付其AI芯片路線圖，以滿足激增的需求。

新工具的成本約為4億美元，是原始EUV機器的兩倍。

ASML的數據顯示，這些高NA EUV工具目前經歷的停機時間有限，已生產出50萬個直徑如餐盤的硅晶圓，並能繪製足夠精確的電路圖案，形成芯片上的電路。這三個數據點共同表明，這些工具已準備好供製造商使用。

“我認為現在正處於一個關鍵點，值得關注已經進行的學習循環數量，”他說，指的是客戶對這些機器進行的測試次數。

儘管技術上已準備就緒，但公司仍需兩到三年時間進行充分的測試和開發，才能將其整合到生產中。

“（芯片製造商）擁有所有資格認證這些工具的知識，”Pieters說。

他還表示，公司目前的運行時間約為80%，計劃年底前達到90%。ASML計劃公布的成像數據足以說服客戶用一個高NA步驟取代多個較舊的步驟，Pieters說。這些機器已處理的50萬個晶圓幫助公司解決了許多問題。

（由Max A. Cherney在舊金山報導；由Sayantani Ghosh和Matthew Lewis編輯）