Peningkatan produksi chip DRAM, akankah ASML dapat meningkatkan margin keuntungan dengan alat EUV?

Cerita ASML bukan hanya tentang monopoli teknologi mesin litografi EUV, tetapi yang lebih penting adalah bagaimana mereka mendapatkan keuntungan dari peningkatan rantai industri pembuatan chip.

Ketika industri fokus pada iterasi chip logika (logic), kemajuan teknologi di bidang DRAM mulai menjadi titik pertumbuhan keuntungan yang kurang dihargai. ASML mencatat margin laba kotor kuartal ketiga tahun 2025 meningkat sebesar 80 basis poin menjadi 51,6% secara tahunan, dan kekuatan pendorong di baliknya secara perlahan mulai berubah. Chip logika tetap menyumbang dua pertiga dari penjualan sistem, tetapi kecepatan adopsi EUV dalam industri DRAM semakin meningkat—terutama untuk chip penyimpanan bandwidth tinggi terkait AI, yang semakin menuntut presisi proses yang tinggi.

Mengapa DRAM menjadi pengungkit keuntungan baru bagi ASML?

Pandangan tradisional menganggap DRAM sebagai bisnis dengan margin rendah, tetapi persepsi ini mulai usang. Seiring chip penyimpanan berkembang ke arsitektur dengan kepadatan lebih tinggi, produsen DRAM harus mengadopsi proses EUV. Sementara itu, node canggih dalam chip logika membutuhkan penggunaan multiple layer EUV exposure, yang meningkatkan utilisasi alat dan juga meningkatkan kebutuhan upgrade perangkat lunak serta layanan. Pendapatan berulang dari layanan ini biasanya memiliki margin lebih tinggi daripada penjualan sistem awal.

Peningkatan penetrasi EUV dalam DRAM secara langsung berarti pesanan sistem yang bernilai lebih tinggi. Alat litografi ultraviolet ekstrem sendiri memiliki harga jauh di atas alat UV dalam, dan semakin tinggi proporsi penjualan EUV, semakin tinggi nilai rata-rata pesanan ASML. Secara keseluruhan tahun 2025, ASML memperkirakan pertumbuhan penjualan sekitar 15%, dengan margin laba kotor mendekati 52%, yang mencerminkan permintaan EUV yang tetap kuat.

Apa yang diungkapkan panduan kuartal keempat?

ASML memperkirakan pendapatan kuartal keempat antara 9,2 miliar euro hingga 9,8 miliar euro, dengan kenaikan berurutan sebesar 26,3% (median). Pada periode yang sama, margin laba kotor diperkirakan berada di kisaran 51-53%, meningkat 40 basis poin secara berurutan. Angka-angka ini menunjukkan dorongan ganda dari pengiriman EUV dan bisnis layanan dengan margin tinggi—yang mencerminkan kebutuhan nyata dari produsen DRAM terhadap proses canggih.

Partisipan lain dalam ekosistem industri

Meskipun ASML mendominasi pasar mesin litografi EUV, bidang peralatan pembuatan chip tidak didominasi oleh satu perusahaan. Applied Materials menyediakan alat etch dan deposit, dan seiring semakin kompleksnya desain chip AI, alat mereka membantu produsen mencapai node yang lebih kecil dan performa yang lebih tinggi. KLA Corporation fokus pada pengendalian proses dan sistem inspeksi, memastikan yield produksi. Kinerja kedua perusahaan ini sebagian mencerminkan kondisi industri pembuatan chip di hilir—termasuk laju peningkatan DRAM.

Perbedaan valuasi dan ekspektasi pasar

Harga saham ASML naik 33,3% dalam 6 bulan terakhir, mengungguli kenaikan 22,2% dari indeks sektor teknologi. Namun, P/E forward-nya sebesar 33,76 lebih tinggi dari rata-rata sektor sebesar 27,76, dan apakah premi ini akan bertahan tergantung pada realisasi pertumbuhan. EPS konsensus untuk 2025 diperkirakan meningkat 39,3% secara tahunan, sementara untuk 2026 hanya meningkat 3,8%—ini menunjukkan kekhawatiran pasar terhadap pertumbuhan jangka panjang. Dalam 30 hari terakhir, estimasi 2025 telah dinaikkan, tetapi estimasi 2026 justru diturunkan, mencerminkan kehati-hatian terhadap kemungkinan puncaknya siklus EUV dalam waktu dekat.

Kesimpulan

Peningkatan proses dalam chip DRAM dan permintaan chip AI menciptakan wilayah pertumbuhan baru bagi alat EUV ASML. Ketika pendapatan dari layanan dan basis instalasi keduanya meningkat secara bersamaan, struktur keuntungan ASML diharapkan akan secara bertahap membaik. Namun, valuasi saat ini sudah merefleksikan ekspektasi optimis secara penuh, dan investor perlu memantau secara ketat rencana investasi nyata dari produsen DRAM serta apakah penetrasi EUV akan mempercepat sesuai harapan.